EUV光刻機是一項技術奇跡。一臺發(fā)生器每秒噴射出5萬個微小的熔錫液滴，高功率激光對每個液滴進行兩次爆破，第一次可以使錫成形，第二次是使錫蒸發(fā)成等離子體。等離子體發(fā)出極紫外光輻射，這種輻射聚集成光束并通過一系列反射鏡反射最終撞擊晶圓。反射鏡十分光滑，以至于即使擴大到德國國土面積的尺寸大小，其凹凸也不會超過1毫米。

EUV光束撞擊晶圓的精度很高(本身就是材料科學的奇跡)，相當于一把從地球上發(fā)射的弓箭直接擊中放在月球上的蘋果。EUV光刻機就是通過這樣一系列操作，將晶體管拉入5nm的晶圓，5nm大概相當于我們的指甲在5秒內長出的長度。

技術奇跡EUV光刻機的制造困局

一臺EUV光刻機由10萬多個零件組成，成本約為1.2億美元，需要用40個貨運集裝箱裝運。但就是這臺價值1.2億美元的機器，目前世界只有幾十臺，各國對其的需求量也遠遠超過供應量，且還有大約兩年的未交貨訂單。

之所以數(shù)量少，是因為目前世界上只有荷蘭的ASML公司能夠制造EUV光刻機。ASML是一家?guī)缀踔簧a用于芯片制造光刻機的公司，盡管它的業(yè)務很局限，但該公司的市值卻超過1500億美元，遠遠高于IBM的市值，僅略低于特斯拉。

EUV光刻技術自1980年以來一直在發(fā)展，直到最近兩年才進入批量生產階段。除了ASML，其它公司(尼康、佳能等公司)只能生產不使用EUV技術且成本效益較低的老一代光刻機，這些公司所擁有的經驗、專業(yè)知識以及市場定價權都來自于極端技術需求下競爭激烈的行業(yè)數(shù)十年的盈利能力。

如果這些公司能夠制造EUV光刻機，那么他們將賺上數(shù)十億美元。這也是為什么在經歷了30多年和數(shù)十億美元的研發(fā)投入后，ASML能夠獲得如此多的訂單：EUV光刻機走在人類技術能力的前沿，制造難度大。

中國自研EUV光刻機的可能性

中國幾乎沒有光刻經驗和光刻行業(yè)，任何試圖開發(fā)EUV光刻機的中國公司都必須從頭開始，不得不努力縮小與擁有數(shù)十億美元資產、數(shù)十年經驗以及經驗和專業(yè)知識都頗為豐富的成千上萬員工的ASML的差距，同時也不得不在那些經驗豐富和擁有數(shù)億美元的生產光刻機的公司曾經失敗過的地方取得成功。

由此可見，在短期內，中國公司自主生產EUV光刻機的可能性很小。

中國意識到EUV光刻機的重要性，且在美國的壓力下，荷蘭政府于2019年11月阻止ASML將EUV光刻機運送到中國。相關新聞報道將ASML描述成中美貿易戰(zhàn)的棋子，但荷蘭的決定事關重大。

這是因為，有許多具有戰(zhàn)略意義的技術都具有潛在的危險性或不確定性，包括人工智能、自主武器系統(tǒng)、高超音速導彈、網絡武器、監(jiān)視工具和最新一代核武器，這些技術以及其他技術都需要最新的芯片來開發(fā)和部署。如果讓這些技術籌碼遠離中國政府或代表中國政府行事的人，可以在未來幾十年里先發(fā)制人地保護人權和安全。

但如果缺乏先進的芯片，中國就不能參與技術權威主義或軍備競賽。

出口管制不應阻礙全球繁榮

中美兩國之間的貿易往來促進彼此繁榮，但美國始終認為某些東西過于危險而無法自由貿易。過去四十年，中國的開放和中國社會的日益繁榮是上個世界最重要的發(fā)展之一，將近10億人擺脫了貧困。美國及其盟國實施的任何出口管制都應該盡可能縮小范圍，只針對破壞國際安全或人權的技術和用戶。

可以通過“兩步走”出口控制計劃來實現(xiàn)這一目標。首先，美國、荷蘭和日本應對生產先進芯片所學的包括光刻機在內的制造設備實施嚴格的多邊出口管制。這三個國家?guī)缀鯄艛嗔讼冗M的芯片制造設備，其技術壁壘與EUV光刻技術類似。有針對性的出口管制將繼續(xù)促進彼此往來。

其次，制造先進芯片的國家應該對芯片實行狹窄的多邊出口管制。這些控制措施應針對特定的最終用戶和最終用途，同時允許絕大多數(shù)中國公司進口用于商業(yè)用途的芯片。

EUV光刻機不僅僅是技術奇跡，還提供了重要的發(fā)展路徑。通過先進的計算機芯片技術，可以推動科學和工程領域前沿的發(fā)展，促進全球繁榮。若這些機器掌握在民主國家手中，可能在未來十年，都能夠維持繁榮前進的步伐。

關鍵詞： 光刻機